【摘 要】
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本文报道了一种最高工作温度为1200℃,功耗小,真空性能好、结构紧凑、温度分布均匀的小型钽电阻加热器的制作新技术。该技术的特点是能灵活地改变加热器的形状和加热丝的分布
【机 构】
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长沙半导体工艺设备研究所,长沙半导体工艺设备研究所
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本文报道了一种最高工作温度为1200℃,功耗小,真空性能好、结构紧凑、温度分布均匀的小型钽电阻加热器的制作新技术。该技术的特点是能灵活地改变加热器的形状和加热丝的分布,有效地减小加热器中的轴向温度梯度。 利用这一技术,已制造出在真空中工作的管状和板状加热器。管状加热器能用于多种薄膜生长设备中的坩埚加热。板状加热器可用于衬底加热。
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