应用多孔阳极氧化电流-时间曲线比较壁垒膜厚

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在有壁垒膜存在的表面,多孔膜的生长在氧化初期受到延迟阻碍,这一现象在直流恒压多孔阳极氧化电流一时间曲线上反映出来。电流达到稳态氧化的时间愈长,壁垒膜愈厚。文中应用此法判断了0.5MH_3BO_3介质的pH值、温度对壁垒阳极氧化膜厚的影响,并应用记录同一介质环境壁垒恒流阳极氧化的槽压一时间曲线得到验证。 In the presence of barrier film on the surface, the growth of the porous membrane was retarded by the delay in the initial oxidation stage, a phenomenon that is reflected in the time-constant curve of the DC constant-pressure porous anodic oxidation current. The longer the current reaches steady-state oxidation, the thicker the barrier film. In this paper, the influence of pH value and temperature of 0.5MH_3BO_3 medium on the anodic oxide film thickness was evaluated by using this method. The time-slot curve of a constant current anodic oxidation with the same dielectric environment was validated.
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