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真空掩模蒸镀是制备OLED发光层的主要方法。OLED掩模版所用的材料是热膨胀系数极低的Invar合金。通常掩模版的厚度只有40μm，带有几百万个微小的长方形像素。由于使用三基色发光材料的彩色OLED在制造过程中需要先后使用几张掩模版，因而对掩模版的精度要求非常高。
微水刀激光技术用于制造第4代OLED掩模版
【摘 要】
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真空掩模蒸镀是制备OLED发光层的主要方法。OLED掩模版所用的材料是热膨胀系数极低的Invar合金。通常掩模版的厚度只有40μm，带有几百万个微小的长方形像素。由于使用三基色发
【出 处】
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光机电信息
【发表日期】
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2008年11期
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