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研究了用电化学方法在SnO2基底上沉积的NiO2Hy膜电致变色特性，该膜是一种富氧结构，具有优良的变色特性，其透射式光密度△OD在可见光区可达1以上，NiOxHy膜在KOH电解液中的电致变色行为是由质子的注入或萃取所决定。H^+注入并占据Ni空位，会使一部分Ni^3+转化为Ni^2+,Ni^3+的减少将导致光透性增强，这是因为Ni的d电子能级在NiO6八面体晶场中被分裂为t2g和eg能级。H^+的注入使Ni^3+的t2a能级被电子填满，变为Ni^2+,导致光学透明，反之，H^+的萃取使t2g能级出现空穴，