【摘 要】
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通过APC(Advance Process Control)的建模和研磨实验,研究了APC的闭环控制(Close Loop Control)和开环控制(Open Loop Control)在DSTI CMP(Direct STI CMP)制程中的应用。比较了固定时间、终点监测和闭环APC控制下的氮化硅去除量及晶圆片间差异分布。进一步分析了在双研磨液工艺中一步式研磨自动化过程的开环控制。
【基金项目】
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上海市经济和信息化委员会软件和集成电路产业发展专项基金(1700223)。
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通过APC(Advance Process Control)的建模和研磨实验,研究了APC的闭环控制(Close Loop Control)和开环控制(Open Loop Control)在DSTI CMP(Direct STI CMP)制程中的应用。比较了固定时间、终点监测和闭环APC控制下的氮化硅去除量及晶圆片间差异分布。进一步分析了在双研磨液工艺中一步式研磨自动化过程的开环控制。
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