亿合公司推出新型200 mm光罩对准曝光机

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EVG(亿合)科技股份有限公司推出的新型200 mm光罩对准曝光机 EVG6200,对先进封装、微机电及光电产业各种不同的需求,提出了最具价格竞争力的解决方案。EVG6200特殊设计可处理厚光阻、弯曲及易碎的晶圆,对因过 EVG6200, a new 200 mm reticle alignment and exposure machine introduced by EVG Technology Co., Ltd., offers the most competitive price solution to the various needs of advanced packaging, MEMS and optoelectronics industry. EVG6200 special design can handle thick photoresist, bending and fragile wafer, due to over
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