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微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜的装置，装置在微波输入功率为3.0kW时能长时间稳定运行，并在硅衬底上沉积出金刚石膜。
水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜装置研制
【摘 要】
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微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜的装置，装置在微波输入功率为
【机 构】
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中国科学院等离子体物理研究所,中国科学院等离子体物理研究所
【出 处】
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真空与低温
【发表日期】
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2001年1期
【基金项目】
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国家 863计划资助项目!项目号： 715－ 002－ 0020
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