【摘 要】
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介绍了采用基于柠檬酸、硫酸和磷酸的腐蚀溶液对气态分子束外延生长的InP衬底上GaAs0.51Sb0.49湿法腐蚀研究工作。对不同体积比的腐蚀溶液的腐蚀速率和表面粗糙度进行了研究
【机 构】
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中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,中国科学院研究生院,
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介绍了采用基于柠檬酸、硫酸和磷酸的腐蚀溶液对气态分子束外延生长的InP衬底上GaAs0.51Sb0.49湿法腐蚀研究工作。对不同体积比的腐蚀溶液的腐蚀速率和表面粗糙度进行了研究。和硫酸及磷酸基腐蚀液相比,柠檬酸/双氧水腐蚀液的腐蚀速率较慢但具有很好的表面粗糙度。作为验证,采用最优体积比5:1的柠檬酸/双氧水腐蚀溶液,工艺制备出InP/GaAsSbDHBT器件。
In this paper, the wet etching of GaAs0.51Sb0.49 on InP substrate grown by gaseous molecular beam epitaxy based on the etching solution of citric acid, sulfuric acid and phosphoric acid is introduced. The corrosion rate and surface roughness of different volume ratios of etching solutions were studied. Compared with sulfuric acid and phosphate-based etching solution, citric acid / hydrogen peroxide etching solution corrosion rate is slower but has a good surface roughness. As a verification, the InP / GaAsSbDHBT device was prepared by the etching solution of citric acid / hydrogen peroxide with the optimal volume ratio of 5: 1.
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