【摘 要】
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利用三级差分抽气的分子束质谱装置,对短间隙纯氢异常辉光放电阴极鞘层区中Hn+ (n＝l～3)离子粒种及相对离子流强度与气压、放电电流的关系进行了研究.在133～665Pa氢气压下的放电
【机 构】
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大连理工大学等离子体物理化学实验室,大连116024
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利用三级差分抽气的分子束质谱装置,对短间隙纯氢异常辉光放电阴极鞘层区中Hn+ (n＝l～3)离子粒种及相对离子流强度与气压、放电电流的关系进行了研究.在133～665Pa氢气压下的放电离子流中,H+占90%以上,其次是H+3 ,H+2 几近为零,且H+与H3+ 的离子流强度比值随气压升高迅速增加.同一气压下,放电电流在一定范围内变化只是改变总离子流的强度,而不同离子的相对离子流强度改变不大.对纯氢等离子体中所包含的主要基元物理-化学过程进行了讨论.
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