【摘 要】
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实验研制了针对波长２４８ｎｍＫｒＦ准分子激光的零级抑制石英相位掩模器。用双层掩蔽和图形转移技术，在双面抛光的石英基片上以ＣＨＦ３／Ｏ２为反应气体，用反应离子刻蚀技术制作了具有良好完整性、周期１．０８５μｍ的
【机 构】
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北方交通大学光波技术研究所,中国科学院半导体所国家光电子工艺中心
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实验研制了针对波长２４８ｎｍＫｒＦ准分子激光的零级抑制石英相位掩模器。用双层掩蔽和图形转移技术，在双面抛光的石英基片上以ＣＨＦ３／Ｏ２为反应气体，用反应离子刻蚀技术制作了具有良好完整性、周期１．０８５μｍ的石英相位掩模器。实际测量表明其零级衍射效率被抑制到５．９７％。
The zero-order suppression quartz phase mask was experimentally developed for a 248 nm KrF excimer laser. The quartz phase retarder with good integrity and period of 1.085μm was fabricated by reactive ion etching using CHF3 / O2 as the reactive gas on the double-sided polished quartz substrate with double masking and pattern transfer technology. The actual measurement shows that the zero-order diffraction efficiency is suppressed to 5.97%.
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