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利用等离子反应器从SiF4与CH4制备HF和SiC的探索研究
利用等离子反应器从SiF4与CH4制备HF和SiC的探索研究
来源 :云南化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户:VANDY115
【摘 要】
:
研究了一个新型反应,即SiF4气体与CH4气体反应生成无水HF气体和SiC固体。该反应在最大能量为20eV的等离子反应器的固定床中进行,反应一段时间后,收集反应器壁上固体,通过分析
【作 者】
:
李玉叶
黄忠
田强
【机 构】
:
云南云天化股份有限公司研发中心,云南省化工研究院
【出 处】
:
云南化工
【发表日期】
:
2019年5期
【关键词】
:
等离子体反应器
四氟化硅
甲烷
固定床
碳化硅
Plasma reactorSilicon tetrafluorideMethaneFixed bedsSili
【基金项目】
:
云南省科技创新平台建设计划2012CF028和2015DC008的支持.
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研究了一个新型反应,即SiF4气体与CH4气体反应生成无水HF气体和SiC固体。该反应在最大能量为20eV的等离子反应器的固定床中进行,反应一段时间后,收集反应器壁上固体,通过分析固体中的碳含量来判断四氟化硅和甲烷的反应情况。结果表明:四氟化硅和甲烷可以发生反应,但是速度十分缓慢。
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