下一代光刻术国际讨论会简介

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chouddy
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出席1998年3月9~10日在日本京都举行的第一届国际半导体技术讨论会的人员得出结论,光刻的未来前景是光明的,至少近几年如此。这次讨论会的目的是讨论2000~2010年间全世界半导体产业的需求,特别是对光刻和干刻的要求。讨论会由日本日电公司(NEC)... The attendees at the first International Symposium on Semiconductors, March 9-10, 1998, held in Kyoto, Japan, concluded that the future of lithography is bright, at least in recent years. The purpose of this symposium was to discuss the needs of the semiconductor industry in the world from 2000 to 2010, especially for photolithography and dry etching. Seminar by Japan’s Nikkei (NEC) ...
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