图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备

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利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜.利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征.通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异,揭示了图案化金属铜膜的形成机理. A patterned metallic copper film was prepared by self-assembly on a glass substrate using a newly developed small-incident angle deposition (SIAD) technique. The microstructure of the metallic copper film was characterized by scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy Electron diffraction (SAED) / energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) and X-ray diffractometry (XRD) were used to characterize the prepared metallic copper films.According to the analysis of the relative deposition of SIAD and vertical incidence deposition (NID) The morphological and structural differences of the objects reveal the formation mechanism of the patterned metallic copper film.
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