【摘 要】
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扫描隧道谱研究半导体硅掺杂吴敬文，陈浩，丁德胜，陆祖宏，韦钰（东南大学生物医学工程系南京２１００１８）集成电路的集成度正以惊人的速度每年递增，目前，器件沟道尺寸在实验室中已达到０．０７μｍ，预计在今后
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扫描隧道谱研究半导体硅掺杂吴敬文，陈浩，丁德胜，陆祖宏，韦钰（东南大学生物医学工程系南京２１００１８）集成电路的集成度正以惊人的速度每年递增，目前，器件沟道尺寸在实验室中已达到０．０７μｍ，预计在今后的几年里，０．１μｍ加工技术也将走向成熟。随着ＵＬ...
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