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用高频C-V特性测量表面势和界面陷阱密度及其分布
用高频C-V特性测量表面势和界面陷阱密度及其分布
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lx2000
【摘 要】
:
本文基于对MOS结构耗尽-弱反型区C-V特性的理论分析,提出了一种利用高频C-V特性直接测量半导体表面势和界面陷阱密度及其按能量分布的简便方法,减少了测量分析的计算量,降低
【作 者】
:
齐鸣
陈苹
【机 构】
:
西安交通大学电子工程系,西安交通大学电子工程系
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1990年2期
【关键词】
:
C-V
测量
半导体
表面势
陷阱密度
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本文基于对MOS结构耗尽-弱反型区C-V特性的理论分析,提出了一种利用高频C-V特性直接测量半导体表面势和界面陷阱密度及其按能量分布的简便方法,减少了测量分析的计算量,降低了对样品的要求。本文还给出了一些实验样品的测试结果。更多还原
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