中频反应磁控溅射TiO2薄膜对敌敌畏的光催化降解性能

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jayden1986

【摘要】

：

作者利用中频反应磁控溅射技术制备了厚度低于400 nm的TiO2薄膜,并对其在紫外线作用下对敌敌畏(DDVP)的光催化降解性能进行了系统的研究.实验结果显示:敌敌畏的降解速率与光

【作者】

：

赵明庄大明张弓方玲吴敏生刘家浚

【机构】

：

清华大学机械工程系功能薄膜实验室

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

2003年2期

【关键词】

：

中频反应磁控溅射 TIO2薄膜敌敌畏光催化降解性能光催化剂二氧化钛农药污染物 TiO2 thin filmMidfrequency reactive

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

作者利用中频反应磁控溅射技术制备了厚度低于400 nm的TiO2薄膜,并对其在紫外线作用下对敌敌畏(DDVP)的光催化降解性能进行了系统的研究.实验结果显示:敌敌畏的降解速率与光照时间和紫外辐照强度成正比,在TiO2薄膜催化下,125 W紫外灯辐照4 h后降解率可达97%.300 ℃下退火处理有利于提高薄膜的催化能力.薄膜厚度的增加亦可提高其催化能力.

其他文献

斯特莱克:从装备到编制

"斯特莱克"旅的由来所谓"斯特莱克"旅,就是装备"斯特莱克"轮式装甲车的陆军旅,该车是这个旅的核心战斗平台.因此,要了解"斯特莱克"旅,首先就要了解"斯特莱克"车.

期刊

美陆军信息化战争伊拉克

光束线真空保护联锁与控制系统研制

介绍了光束线前端区装置的组成及光束线真空保护联锁与控制要点。根据光束线真空保护联锁与控制的要求，本实验研制了真空传感器，快速关闭阀及快阀控制器等真空保护联锁与控制系

期刊

光束线真空保护联锁系统控制系统储存环Beamline Vacuum protection Interlock system Control sy

中联重科打造粮食烘干竞争优势

当前，烘干机市场呈现“井喷式”增长态势，很多企业抢着涉猎。据业内人士统计，目前烘干机行业总产能已出现供过于求迹象，供需比率估计超过3：1。在全国首届粮食烘干设备技术与行业发

期刊

竞争优势中联重科粮食企业负责人烘干机增长态势供过于求比率估计

五征精益学院推进人才建设

1月7日，五征精益学院首届人才培养颁奖盛典隆重举行，盛典主题为“创新铸梦想，激发征能量”，对2015年为人才培养做出突出贡献的4个部门和20位员工进行表彰奖励。

期刊

人才建设学院精益人才培养

基于硫化镉量子点-二氧化钛复合材料的Hg2+光电化学生物传感器研究

以硫化镉量子点-二氧化钛(CdS QDs/TiO2)复合材料作为光电转换单元,构建了汞离子(Hg^2+)光电化学(PEC)生物传感器。将两种不同带隙无机半导体CdS QDs和TiO2偶联以提高电极的

期刊

光电化学汞离子(Ⅱ)生物传感器硫化镉量子点二氧化钛金纳米粒子

互联电网静态电压稳定预防控制模型及其算法

提出了基于区域电网间断面功率约束的互联电网静态电压稳定预防控制模型及其算法。该预防控制模型以控制代价最小为目标,约束条件包含了正常运行状态下的可行性约束、预想故

期刊

电力系统电压控制稳定静态电压稳定预防控制互联电网断面功率约束分解协调内点法模型electric power systems voltage c

一种制备优质的有机光薄膜的新方法

提出了一种用真空蒸发和真空热压相结合的技术来制备优质有机光学薄膜的方法，用它制成的有机学薄膜中没有任何残留有机溶剂，在旋转过程中也不产生晶化，因而不会对光发生散射，在光

期刊

有机光学薄膜真空沉积真空热压制备方法真空蒸发Organic optical thin filmOptical communication devic

闭合性肝创伤患者的手术及非手术治疗

目的探讨闭合性肝创伤患者的手术及非手术治疗。方法回顾性分析2012年1月至2016年1月本院收治的65例单纯闭合性肝创伤患者的临床资料,按照治疗方法分为手术组（33例）和非手术

期刊

肝脏闭合性肝创伤手术治疗非手术治疗

3英寸YAG显示管用有机膜溶液的研制

通过分析有机膜溶液成膜的机理与条件，研制出了3英寸YAG投影管用有机膜溶液，经过大量实验证明，消除了屏花、亮度衰减太快等质量问题，采用种有机膜溶液制作的绿3英寸YAG投影管的最

期刊

3英寸YAG显示管有机膜溶液成膜亮度衰减投影电视投影管

接触式串联射频MEMS开关的工艺研究

本文采用MEMS工艺制作接触式串联射频开关,射频开关采用双端固定的悬臂梁结构,悬梁为PECVD制作的SiN薄膜,溅射Au制作共平面波导,聚酰亚胺作为牺牲层,运用等离子体刻蚀法释放

期刊

共平面波导牺牲层刻蚀工艺射频开关MEMS开关接触式PECVD串联开关结构电极RFMEMSSwitchesFabrication pro

中频反应磁控溅射TiO2薄膜对敌敌畏的光催化降解性能

与本文相关的学术论文