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氢氧化硅薄膜是一种新型的薄膜材料，具有优良的光电性能，机械性能，钝化性能和化学稳定性能，但杂质氮的存在限制了它的应用。。详细阐述了氢氧化硅薄膜中氢杂质的存在活动及其对薄膜性能的影响，并提出了降低氢含量的合理方法。
SiON薄膜中氢的研究
【摘 要】
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氢氧化硅薄膜是一种新型的薄膜材料，具有优良的光电性能，机械性能，钝化性能和化学稳定性能，但杂质氮的存在限制了它的应用。。详细阐述了氢氧化硅薄膜中氢杂质的存在活动及其对薄
【机 构】
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浙江大学材料系桂材料国家重点实验室
【出 处】
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材料导报
【发表日期】
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2000年3期
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