【摘 要】
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利用脉冲激光沉积技术（PLD），在不同的制备工艺条件下，分别在Pt／Ti／Si02／Si基片上制备了Bi0．5Na0．5TiO3（BNT）系列的Bi0.5（Na0.7K0.2Li0.1）0.5TiO3（BNKLT）和K0．5Na0.5NbO3（KNN）系列的Li0．04（Na0.5K0
【机 构】
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四川大学材料科学与工程学院,表面物理与化学国家重点实验室,香港理工大学应用物理系
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利用脉冲激光沉积技术（PLD），在不同的制备工艺条件下，分别在Pt／Ti／Si02／Si基片上制备了Bi0．5Na0．5TiO3（BNT）系列的Bi0.5（Na0.7K0.2Li0.1）0.5TiO3（BNKLT）和K0．5Na0.5NbO3（KNN）系列的Li0．04（Na0.5K0.5）096（Nb0.775Ta0.225）O3（KNNLT）无铅压电陶瓷薄膜，并利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）对薄膜的晶体结构及表面形貌进行了比较研究。研究结果表明：薄膜的衬底温度、
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