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本文综合评述了用射频率等体化学气相沉积法制备类金刚石碳膜过程中的等离子体化学反应和等离子体与材料表面反应机理的研究概况。
RF—PECVD制备类金刚石碳膜的沉积机理
【摘 要】
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本文综合评述了用射频率等体化学气相沉积法制备类金刚石碳膜过程中的等离子体化学反应和等离子体与材料表面反应机理的研究概况。
【机 构】
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华中理工大学材料系
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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1997年4期
【基金项目】
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华中理工大学塑性成型模拟及模具技术国家重点实验室资助
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