等离子蚀刻微导通孔技术——积层工艺会满足对密度的需求

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球栅阵列(BGA)、芯片级组装(CSP)以及其它发展中的结构因素的广泛使用表明,为了安装具有极紧密间距和较小的几何形状的PCBs元件,必须采用新的制造技术。快速脉冲速度和信号带宽同时还要求板的形状能够克服射频干扰(RFI)及电磁干扰(EMI)作用于成品产品性能上的负影响。不断复杂化的半导体要求制造更小、更密、更快的互连板,这在成本和技术上限制 The widespread use of ball grid array (BGA), chip scale assembly (CSP), and other evolving structural elements has shown that new manufacturing techniques must be employed in order to mount PCBs components with very close spacing and smaller geometries. Fast pulse speed and signal bandwidth also require board shapes that overcome the negative effects of radio frequency interference (RFI) and electromagnetic interference (EMI) on finished product performance. Complicating semiconductors require smaller, denser, faster interconnects, which is cost and technically limited
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