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中微半导体设备有限公司（中微）日前宣布中微单反应台等离子体刻蚀设备（PrimoSSCAD-RIE-TM）已交付韩斟领先的存储器制造商。PrimoSS-CAD-RIE-TM是中微公司目前最先进的介质刻蚀设备，可用于1Xnm关键刻蚀工艺芯片加工。
中微交付韩国用于3D VNAND闪存工艺的先进刻蚀机
【摘 要】
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中微半导体设备有限公司（中微）日前宣布中微单反应台等离子体刻蚀设备（PrimoSSCAD-RIE-TM）已交付韩斟领先的存储器制造商。PrimoSS-CAD-RIE-TM是中微公司目前最先进的介质刻蚀设
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2015年8期
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