【摘 要】
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中频磁控溅射镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的影响多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。综述了中频磁控溅射镀中的工艺参数的作用,这些参数包括中频电流、脉冲负偏压、沉积时间及靶基距等。通过对薄膜沉积过程中工艺参数的总结,可加深这些参数对薄膜结构及性能影响规
【机 构】
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佛山科学技术学院环境与化学工程学院
【基金项目】
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佛山科学技术学院岭南学者科研启动项目； 2020年度广东高校科研平台和项目（金属材料表面复合膜的智能制造）资助；
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中频磁控溅射镀是真空镀膜技术中最常用的技术之一,目前在科学研究及工业生产中都得到了长足发展。但是在薄膜沉积过程中的工艺参数如中频电流、脉冲负偏压、沉积时间等对薄膜结构及性能的影响多分散于不同的文献中,不利于对这些参数的认识与深入理解。综述了中频磁控溅射镀中的工艺参数的作用,这些参数包括中频电流、脉冲负偏压、沉积时间及靶基距等。通过对薄膜沉积过程中工艺参数的总结,可加深这些参数对薄膜结构及性能影响规律的理解,促进真空镀膜技术的工艺开发及技术进步。
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