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以高纯石墨作靶、氩气(Ar)和三氟甲烷(CHF3)为源气体,用反应磁控溅射法在不同射频输入功率、流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,并对F-DLC薄膜疏水性能进行了研究。双蒸水液滴与膜表面接触角的测试结果表明,所制备F-DLC薄膜表面的最大水接触角可达1150左右。通过原子力显微镜获得的薄膜表面AFM图谱、拉曼光谱以及傅里叶变换红外光谱探讨了影响薄膜疏水性能的因素。结果表明,薄膜的疏水性与薄膜的表面粗糙度和键结构直接相关,表面粗糙度越大,疏水性越好,但不同工艺条件下薄膜的疏水性和sp3