【摘 要】
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采用磁控溅射法制备了Pt/Co/Pt/Ni(x)多层膜系列样品,并对其结构、磁性和磁光特性进行了系统分析和研究,取得的结果可归纳如下:一、分别考察了随Ni层的厚度的变化,各个电导张
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采用磁控溅射法制备了Pt/Co/Pt/Ni(x)多层膜系列样品,并对其结构、磁性和磁光特性进行了系统分析和研究,取得的结果可归纳如下:一、分别考察了随Ni层的厚度的变化,各个电导张量元的变化对θ<,k>变化的贡献;二、短波段,σ<,2xy>对θ<,k>的变化起主导作用;三、长波段,随Ni层厚度的增加,θ<,k>先有所增强(对比纯Pt/Co样品增强幅度约为20%左右),而后单调下降.通过分析四个电导张量元对θ<,k>的贡献,研究人员认为:长波段,θ<,k>的增强效应来源于四个电导张量共同贡献,不能断言某个电导张量元起主导作用;四、结合X射线小角衍射,通过分析H<,c>变化,发现Ni层厚度较厚时,体系反磁化过程主要以壁移方式进行,H<,c>来源于界面对畴壁移动的阻力;Ni层厚度较薄时,H<,c>主要由反磁化形核过程决定;五、Ni的插入导致θ<,k>与T<,c>都有变化.
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