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本文首先对气相沉积硬质薄膜(镀层)的发展以及TiN系列超硬薄膜的结构、性能和应用进行了综合描述,并分析了TiAlN薄膜相对与其它TiN系列薄膜的优势,指出了其发展的方向。随后总结了目前TiAlN薄膜的主要制备方法和主要的表征方式。在此基础上选用直流反应磁控溅射的方法在WC—6%Co和不锈钢基体上成功的沉积了TiAlN薄膜。通过改变氮气流量,基体温度等工艺参数,得到了不同组织结构、性能和微观形貌的TiAlN薄膜。通过改变基体偏压的大小,研究了偏压大小对TiAlN薄膜表面形貌、性能的影响。X射线衍射谱(