电磁场应用于材料制备领域，已成为材料科学和材料制备领域重要的研究方向，也日益成为世界各国研究的热点。电磁场具有许多其它材料加工手段所无法比拟的优点，它能量密度高、易控制，可传递热能和动能给材料而不对材料造成污染。因而，电磁场提供了一种非常清洁和新颖的材料加工手段。将电磁场应用于电沉积过程就得到一种镀膜材料的制备方法。本文研究了电磁场对Ni-W合金电沉积的影响。Ni-W合金镀层具有较高的耐蚀性、耐磨性、硬度和热稳定性，有着广泛的应用前景。将稳恒磁场施加于电镀Ni-W合金过程进行研究具有一定的理论和现实意义。 通过施加0-1T的稳恒磁场，研究了Ni-W合金在纯铜和A3钢基体上沉积的电流效率、沉积速率及镀层的耐蚀性、合金组成、显微硬度、孔隙率；用扫描电镜、金相显微镜对镀层的微观形貌进行了观察；对镀层进行了X射线衍射分析。对实验数据及结果进行了分析讨论，找出了稳恒磁场对这些性能指标的影响规律。 实验结果表明：与不施加磁场相比，施加磁场后镀层的表面更细致、平整；镀层的含钨量和显微硬度上升；镀层的非晶化程度增强；施加磁场使镀层耐蚀性增强，但使Ni-W合金电镀的总电流效率及沉积速率降低。