光刻技术因低成本、高效率、高分辨率等优点,被广泛应用于微电子领域,随着电子设备微型化和信息存储高量化的发展,提高光刻技术变得非常重要。感光干膜作为一种光刻胶,主要由光引发体系、反应单体和溶剂等组成,其决定了印刷线路板的分辨率,因此开发新型高效的光引发体系对印刷线路板有重要意义。邻氯代六芳基双咪唑（BCIM）因具有特殊的分子结构而具备优良的光解离特性、高分辨率、良好的热稳定性和光致变色特性,是一种工业常用的光引发剂。本文基于该光引发剂吸光范围有限,且现有光敏剂感光能力弱、吸收范围小、能量转移效率低等现状,合成了两类光敏性能优良、能量转移效率高的新型光敏剂。一方面通过引入羟基、硫原子、苯环、烷基苯环、多烷基链等基团合成了五种9,10-二硫/氧代蒽光敏剂ANs;另一方面通过引入甲基、异丙基、硫原子、卤素原子等基团制备了十种二苯乙烯基吡啶类光敏剂DSPs。新型蒽类光敏剂ANs含有给电子能力更强的硫原子及羟基、溶解性更强的烷基链,以及共轭性更强的苯环。紫外-可见光吸收光谱表明ANs在355-420 nm之间具有良好的吸收性能。和商用光敏剂相比,其最大吸收峰λmax有显著的红移且吸收强度明显增加;荧光淬灭实验结果表明激发态ANs与BCIM之间存在明显的能量转移;通过电子自旋捕获实验的ESR谱图得知AN@BCIM光引发体系可以产生自由基,我们在此基础上提出了自由基产生的机理。实时红外实验结果表明AN@BCIM体系加速了丙烯酸酯单体的自由基聚合反应;通过光刻实验结果我们发现含光敏剂ANs的感光干膜具有更高的分辨率;同时光漂白实验结果表明了ANs具有快速光致漂白特性。综合以上实验结果表明9,10-双取代蒽类高效光敏复合体系在光刻技术领域具有潜在的应用价值。新型二苯乙烯基吡啶类光敏剂DSPs含有苯环和吡啶环,以及两个可以旋转的双键碳。通过紫外-可见光谱可知DSPs在355-420 nm之间均具有良好的吸收性能,并且摩尔消光系数ε基本都在2×104 L mol-1cm-1以上;循环伏安实验结果表明DSPs氧化电位较低且具有良好的激发特性;荧光寿命光谱显示出DSPs与BCIM之间存在较强的能量转移,电子自旋共振实验结果证实了不同的DSPs@BCIM光引发体系均可以产生自由基。光聚合动力学研究结果表明DSP@BCIM引发体系可以有效地引发丙烯酸酯单体聚合,光刻实验结果表明DSP@BCIM引发体系可以提高感光干膜的分辨率。研究发现DSPs在365 nm紫外光照射下具有快速光致漂白特性,这是因为DSP发生了从EE到EZ再到ZZ的构象变化。以上实验结果说明了二苯乙烯基吡啶类高效光敏与BCIM的复合体系为光刻领域提供了一个新的光引发体系,其在光刻胶领域具有一定的商业价值。