本文主要以探索通过简单的浸渍法制备高分散、抗烧结的催化剂为目的,以乙酰丙酮盐为前驱体制备了 Ni/SiO₂-acac、Rh-CeO₂/SiO₂-acac和Rh-Sm2O₃/Si02-acac催化剂。通过原位红外光谱（IR）、BET测试、H₂-程序升温还原（H₂-TPR）、热重分析（TG-DTG）、高分辨透射电子显微镜（TEM）、X-射线粉末衍射（XRD）和X-射线光电子能谱（XPS）等实验技术对催化剂的物相以及金属与载体、助剂间的相互作用进行了表征,并以甲烷部分氧化（POM）和甲烷二氧化碳重整（DRM）制合成气为目标反应对催化剂抗高温烧结性能进行了考察,主要研究结果如下:（1）以乙酰丙酮镍（Ni（acac）2）为前驱体采用简单的浸渍法即可制备出高分散、抗烧结的Ni/SiO₂催化剂。与Ni（NO₃）2或NiCl2制备的Ni/SiO₂催化剂相比,以Ni（acac）2为前驱体制备的Ni/Si02具有更高的分散度。原位红外表征结果表明,Ni（acac）2通过与SiO₂表面硅羟基形成氢键而高分散吸附于载体表面,只要Ni的负载量不超过～5%,均可保证Ni（acac）2以单层分散于SiO₂表面。TG-DTG表征结果表明,单层分散于SiO₂上的Ni（acac）2在空气中加热至350℃左右发生分解,由此生成的NiO物种具有良好的抗烧结性能,只要焙烧温度不超过800℃且Ni的负载量不超过5%,催化剂上的Ni物种的粒径均可保持在2.5 nm左右,粒径分布也较为集中。（2）在以乙酰丙酮铑（Rh（acac）3）为前驱体制备Rh/SiO₂-acac的基础上,通过分别添加乙酰丙酮铈（Ce（acac）3）和乙酰丙酮衫（Sm（acac）3）前驱体在Rh/SiO₂q中引入稀土氧化物CeO₂和Sm2O₃助剂制备出高分散、抗烧结的Rh-CeO₂/SiO₂-acac和Rh-Sm2O₃/SiO₂-acac催化剂,并将所得结果与以硝酸盐为前驱体制备的Rh-CeO₂/SiO₂-NO₃ Rh-Sm2O₃/SiO₂-NO₃进行比较。研究表明,Rh/Si02催化剂经高温焙烧或还原后Rh物种的颗粒出现明显团聚,加入CeO₂或Sm2O₃作为助剂可显著提高Rh的分散性以及抗高温烧结性能,进而使低负载量（0.025%）的催化剂在POM和DRM反应中表现出了良好的活性和稳定性,反应之后催化剂上的Rh粒子未出现明显团聚,平均粒径保持在～2.6nm。对催化剂制备机理的研究表明,在浸渍过程中,乙酰丙酮化合物主要通过与SiO₂表面羟基上的H形成氢键均匀分散于SiO₂载体表面。在比表面积约为480 m2/g的SiO₂表面,Sm（acac）3的最大单层负载量约为31%,对应于Sm2O₃的负载量约为15%。只要Sm（acac）3的负载量低于31%,均可保证焙烧后生成的Sm2O₃在SiO₂表面呈高分散状态,经800℃焙烧后也不发生团聚。相比之下,以硝酸盐为前驱体制备的Rh-Ce02/SiO₂-NO₃和Rh-Sm2O₃/SiO₂-NO₃催化剂在POM反应之后出现明显的烧结,从而导致催化剂活性的降低。H₂-TPR和XPS测试结果表明,催化剂上Rh2O₃的还原峰温随着CeO₂或Sm2O₃的加入逐渐向高温发生移动,与Rh/SiO₂相比,Rh-CeO₂/SiO₂-acac和Rh-Sm2O₃/SiO₂-acac的Rh 3d的结合能分别提高了约1.4eV和0.6 eV,说明Rh与助剂CeO₂和Sm2O₃之间存在强相互作用,进而促进了 Rh物种的分散并保证其在高温反应条件下不被烧结。通过对不同CeO₂负载量的CeO₂/SiO₂样品的H₂-TPR图以及H₂消耗量的分析发现,CeO₂/SiO₂-acac样品只有在CeO₂的负载量高于15%时才出现体相CeO₂物种的还原峰,而CeO₂/SiO₂-NO₃样品在CeO₂负载量为5%时就已出现体相CeO₂物种的还原峰。在还原温度不高于900 °C的条件下,CeO₂/SiO₂-acac上的表面CeO₂物种可基本被还原为Ce2O₃,但体相CeO₂物种只有部分被还原,与之相比CeO₂/Si02-NO₃上的体相CeO₂物种较容易被还原,其原因可能与Ce（acac）3分解生成的体相CeO₂的晶粒较大有关。