超低损耗反射镜是影响高精度激光陀螺性能的重要元器件之一，提高其性能的一项关键技术就是进一步改善光学基片的表面洁净度。随着表面污染微粒的容限提高至纳米级，传统的清洗技术已难以满足需求，成为制约基片性能提高的主要技术瓶颈之一。　　 本文在兆声波清洗机理分析的基础上，通过对工艺参数进行深入研究，依托全因子DOE试验结果及MINITAB分析，探索出一条适宜超光滑表面兆声波清洗新技术，并对工艺参数进行优化研究。采用“超声波+兆声波”的组合清洗模式，实现了超光滑光学表面纳米级颗粒的有效去除，同时建立了光学基片清洗的工程化工艺流程及评价体系。结果如下：⑴基片表面洁净度受清洗剂及兆声波输入功率、工作频率、清洗时间、清洗距离等因素影响。使用FA/O清洗剂，在频率为3.0MHz、输入功率28W、清洗时间1min、清洗距离5mm的工艺参数下，基片表面洁净度可达到最佳状态；⑵对试验中基片清洗前后暗场显微镜和原子力显微镜(AFM)照片进行统计分析，同时提取基片表面杂质微粒的图像特征，结合基体表面接触角分析，构建了超光滑基片表面洁净度的评价体系；⑶根据优化后的工艺参数进行工程验证，基片经兆声波清洗后表面颗粒大小由1300nm降至90nm(分布均值)，甚至80nm；颗粒数量由105个/mm2降至3个/mm2～5个/mm2，镀膜后损耗平均降低约20％(30ppm)，并显示出较好的一致性。