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NdFeB永磁体是20世纪80年代从日本最先发展起来的新材料，具有优异的磁性能。由于永磁材料资源丰富、性价比高，在短短的几十年内就在电子工业、通迅信息、交通、国防、医药卫生、环保及石油等领域得到迅猛广泛的应用，在国民经济发展中发挥了显著作用。但是钕铁硼易腐蚀一直限制钕铁硼的应用。 本文采用电沉积的方法，在钕铁硼表面制备了Ni、Cr镀层和Ni-CeO2、Cr-CeO2复合镀层。着重探讨了纳米CeO2浓度、电沉积时间、电流密度对镀层结构、硬度和厚度的影响。 结果表明，对于Ni-CeO2复合镀层来说，当纳米CeO2浓度为10 g/L、电镀时间为31 min、电流密度为3A/dm2得到组织均匀、致密和硬度高的Ni-CeO2镀层。其中，复合镀层中Ce元素的质量分数为3.88％，复合镀层厚度为10.8230μm，硬度为438.3HV。扫描电镜观察表明，镀层中由于纳米CeO2的存在，镀层晶粒由三角锥转变为半圆形。XRD结果表明，Ni的择优取向由(200)变为(111)，Ni晶粒细化。通过电化学实验结果显示在质量分数为3.5％NaCl溶液中，复合Ni-CeO2镀层的自腐蚀电位均较普通Ni镀层正移，在NaCl溶液中阻抗谱容抗弧明显增大，表面复合Ni-CeO2镀层耐腐蚀好于普通Ni镀层。划痕实验、硬度测试表明，复合镀层Ni-CeO2比普通Ni镀层具有更好结合力和硬度。 对于Cr-CeO2复合镀层来说，当纳米CeO2浓度为8 g/L、电镀时间为30mins、电流密度为25 A/dm2得到Cr-CeO2复合镀层。其中，复合镀层中Ce元素的质量分数为3.38％，复合镀层的厚度为10.4095μm，硬度为1120.3 HV。Cr-CeO2复合镀层中由于纳米CeO2的存在，晶体的形貌发生了改变，在复合镀层中纳米CeO2颗粒均匀的镶嵌在镀层中，镀层中的裂纹明显细化了很多。Cr-CeO2复合镀层为非晶态结构。复合Cr-CeO2镀层的自腐蚀电位均较普通Cr镀层正移，自腐蚀电流也明显小于普通Cr镀层，表明复合Cr-CeO2镀层耐腐蚀比普通Cr镀层好。同时，复合镀层Cr-CeO2比普通Cr镀层具有更好的结合力和硬度。 对比这两种镀层，Cr-CeO2复合镀层硬度高，镀层与基体的结合力好;Ni-CeO2复合镀层的原料便宜，电流密度小，容易镀厚。