第一章探索影响不同位置近期皮层下小梗死发生和转归的危险因素目的:探索影响不同位置近期皮层下小梗死（recent small subcortical infarcts,RSSIs）发生及转归的危险因素。材料及方法:回顾性分析2012年7月至2016年8月脑小血管病患者库中入院时发生RSSIs的患者176例。记录人口统计学,血管危险因素,影像学指标,生化指标以及入院时候国立卫生研究院卒中量表（National Institutes of Health Stroke Scale,NIHSS）评分。根据基线弥散序列（diffusion weighted imaging,DWI）将RSSIs划分为脑干区、皮层下白质区和基底节区三组。根据随访T2液体衰减反转恢复序列（T2fluid-attenuated inversion recovery,T2-FLAIR）评估RSSIs是否转变为腔隙灶。利用卡方检验、曼-惠特尼U检验、Pearson相关分析和logistic回归等统计学方法分析与不同位置RSSIs发生及转归相关的危险因素。结果:相对于皮层下白质区域及基底节区域,脑干区域RSSIs患者的糖尿病占比最高,糖化血红蛋白（Hb A1c）水平也较上述两个区域高。脑干区域RSSIs患者入院时NIHSS评分较皮层下白质区RSSIs患者高。皮层下白质区域RSSIs患者白质高信号体积较基底节区RSSIs患者体积大。随访研究发现相对于皮层下白质区域,基底节区RSSIs更不容易转变为腔隙灶,病灶直径大是基底节区域RSSIs转变为腔隙灶的危险因素,而与周围白质高信号毗邻是皮层下白质区域RSSIs转变为腔隙灶的独立危险因素。结论:不同位置RSSIs的发生与转归和不同的血管风险因素及基线影像学征象有关。此外相对于血管危险因素及一般人口学因素,皮层下白质区域RSSIs的转归可能与病灶周围环境关系更加密切,而基底节区域RSSIs转归则与病灶本身关系更加密切。第二章利用神经突方向弥散与密度成像技术探索腔隙灶的远隔效应目的:探索腔隙灶远端皮层微结构的损伤及其与皮层厚度改变之间的关系。材料及方法:回顾性纳入脑小血管病患者库中2014年1月到2018年12月存在慢性腔隙灶且包含完整影像序列（包括脑结构及弥散加权图像）的患者37例。记录人口统计学及血管危险因素。基于腔隙灶所在位置进行纤维追踪辨别与其相连的远端皮层,最后分别获取与腔隙灶相连的远端患侧皮层及对侧健侧皮层的厚度及神经突方向弥散与密度成像（neurite orientation dispersion and density imaging,NODDI）参数值。根据受累皮层位置差异,将腔隙灶患者划分为中央前回皮层受累组和非中央前回皮层受累组。利用配对样本t检验比较健、患侧皮层厚度及NODDI参数值的差异,并利用Pearson相关对健、患侧皮层厚度及弥散参数进行相关分析。结果:相对于健侧皮层,患侧皮层厚度及神经突离散度（orientation dispersion index,ODI）显著下降。在累及中央前回腔隙灶患者的亚组分析中,我们发现健、患侧皮层厚度分别与健、患侧ODI参数呈正相关。结论:NODDI参数可以反映腔隙灶远端皮层微观结构的损伤。皮层厚度与ODI参数之间的相关性表明,神经突的丢失可能与腔隙灶对应远端皮层的萎缩有关。