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本文利用SILAR法于玻璃基体和Kapton基体上制备了超薄TiO_2薄膜,研究了初期沉积过程机理,并分别通过原子氧刻蚀Kapton基体再使用SILAR沉积和添加阳离子表面活性剂辅助SILAR的方法制备了高表面积TiO_2功能薄膜。使用X射线光电子能谱(XPS)、电子顺磁共振(EPR)、傅里叶变换红外光谱(FTIR)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)、光学透过率和接触角对薄膜的结构和生长过程进行表征。研究结果表明,通过对薄膜光学透过率的测试,发现SIL