【摘 要】
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由于受到薄膜制备技术的限制,铁电薄膜表面与内部之间有一个很薄的过渡层(叫做非理想表面层),使得铁电薄膜成为一个不均匀的体系,它的性质不同于三维的体材料。在此之前,人们主要讨论的是铁电薄膜在静态电场下的性质,而对于含有非理想表面层的铁电薄膜在交流电场下介电性质有理论研究但并不多见,因此研究它在交流电场下的动态介电性质更具有十分重要的意义。本文利用平均场近似的软模理论和介电响应理论,对于非理想表面层状
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由于受到薄膜制备技术的限制,铁电薄膜表面与内部之间有一个很薄的过渡层(叫做非理想表面层),使得铁电薄膜成为一个不均匀的体系,它的性质不同于三维的体材料。在此之前,人们主要讨论的是铁电薄膜在静态电场下的性质,而对于含有非理想表面层的铁电薄膜在交流电场下介电性质有理论研究但并不多见,因此研究它在交流电场下的动态介电性质更具有十分重要的意义。本文利用平均场近似的软模理论和介电响应理论,对于非理想表面层状态的描述,引入了表征薄膜内电偶极矩之间相互作用强度随位置变化的参数λ和相对厚度η
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本文利用Nd-YAG激光器(波长为1064 nm,频率为10 Hz)做光源,用脉冲激光沉积法(PLD)分别以金属钛做靶材,在石英玻璃上沉积了纯锐钛矿型氧化钛薄膜和混晶氧化钛薄膜;以氧化钛为靶材沉积了氮掺杂氧化钛薄膜。当基片温度由600 oC升到800 oC时,薄膜的结构由随机生长的锐钛矿结构转变为(211)取向生长。通过对甲基橙溶液的降解测试发现随机生长的薄膜较(211)取向生长的薄膜具有更好的光
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