自2004年石墨烯被偶然发现以来,新型的二维材料以其独特和优异的物理化学性质引起了极大的关注,在电学器件、光电子器件、能源存储、复合材料、催化、传感器等领域都有广泛的应用前景。除了石墨烯以外,过渡金属硫化物（TMDCs）是近些年来最受关注的一类新型二维材料。尽管对块状TMDCs的研究已经有几十年的历史,随着近年来对二维材料的制备方法和表征手段的研究不断深入,单层或少层的二维TMDCs越来越引起了科研工作者的兴趣。在过渡金属硫化物大家族中,关于二碲化钼（MoTe₂）的研究还处于起步阶段,可控制备高质量的MoTe₂是研究其性质与应用的基础,由于MoTe₂自身的特性同时也是重点与难点。本文研究了使用化学气相沉积来制备MoTe₂薄膜的方法,通过控制生长过程中的实验条件实现了对MoTe₂晶相的控制,可以在一个硅片上同时生长两种晶相的大面积MoTe₂,也可以有选择地在整个硅片上生长1T’相或者2H相MoTe₂薄膜。主要内容如下:1、使用单温区管式炉在硅片上生长出了大面积的MoTe₂薄膜。2、生长过程中位于碲粉正上方总会生成1T’相MoTe₂,而在陶瓷舟外侧的MoTe₂则与降温速率有关,在慢速降温时会生成大面积2H相MoTe₂,在快速降温时生长的是1T’-2H相MoTe₂同质结。通过一系列的表征说明生长出的MoTe₂薄膜均匀度和结晶性良好,晶相界面处没有明显的过渡层。3、碲源和衬底之间的距离、碲粉的用量会影响碲蒸气的浓度,从而决定生长的MoTe₂薄膜的晶相。通过将衬底正面朝下放置于碲源上游和下游的位置,成功地在整个硅片上生长出了单一晶相的MoTe₂薄膜。