磁控溅射已成为工业镀膜生产中最重要的技术之一，关于磁控溅射各个方面的研究很多。本文主要做两个方面的工作：分析优化磁控溅射中电磁场的分布和计算辉光放电初期粒子的运动情况。文章对磁控溅射现有典型磁场设计和辉光放电研究情况简述之后，利用Comsol 3.2a计算传统磁铁配置的磁场分布，并对计算结果进行了分析。文中考虑了三种方法对磁场进行优化：在南北极之间加上单、双磁环、在靶材底部附加软磁材料。单磁环是在南北极之间加一个磁环，在两次计算时分别设置为南极和北极；双磁环是在南北极之间添加两个磁环，分别设置为南极和北极。对于每种优化方案，文章都系统地分析每个结构参数对靶表面磁场均匀性和强度的影响，改变磁环及软磁体的位置、尺寸、磁化强度和剩磁强度等参数，计算磁场区域内的磁力线分布及靶材表面的磁场强度曲线，比较不同情况下曲线的差异。根据靶材磁场强度、横向和纵向均匀性三个方面的综合要求考虑，选择磁环的参数为高度h=0.016m、Br=1.2T、w=0.006m作为优化结果，并导出辉光放电区域的磁场强度值，用于模拟带电粒子的运动。然后，文章模拟了辉光放电初期带电粒子的运动和分布，跟踪了电磁场中电子的运动轨迹，并根据大量电子与惰性气体分子的运动和碰撞，得到了电子和Ar~+离子的位置分布。本文对磁控溅射中磁场分布进行了系统的分析，并提出了优化传统磁场布置的方法，对溅射初期的气体放电进行了初步探讨，这些对于溅射系统的设计，及溅射区域内的放电情况的研究，都有重要的参考意义。