【摘 要】
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该文研究准分子激光光刻中相移掩模的设计,制作,光刻实验,重点是相移掩模的智能设计.介绍了准分子激光光刻的进展,讨论了相移掩模的基本原理和制作工艺技术.提出了规则法和模
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该文研究准分子激光光刻中相移掩模的设计,制作,光刻实验,重点是相移掩模的智能设计.介绍了准分子激光光刻的进展,讨论了相移掩模的基本原理和制作工艺技术.提出了规则法和模型法相结合进行相移掩模智能设计的回溯设计技术,实现了相应的PSMICAD软件.这个软件采用基于黑板模型的专家系统技术,设计了相移掩模知识库,推理机,评价黑板和人机界面.软件在工作过程中先对传统掩模进行分析标定,运用专家知识提出设计建议,并用模拟成像的技术对其进行评价,然后再进行回溯设计.在部分相干模拟成像的计算中,采用了相干截断近似的方法.该文还对相移掩模的激光直接写入制作技术工艺和运用准分子激光的相移掩模光刻的实验进行了研究.
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