信息社会的迅速发展要求各种电子元器件具备微型化与高性能化的双重特征。高性能钴基磁性薄膜的研究、制备和开发越来越受到人们的重视。它不仅在磁记录方面用途广泛，而且在传感器方面具有广阔的应用前景。其中Co-Pt薄膜更是由于矫顽力高、磁晶各向异性常数大、抗氧化和抗腐蚀性强等优点而倍受关注。近几年，人们开始用电化学方法制备Co-Pt合金薄膜，以期替代高成本的溅射法；此外，用电化学沉积法合成的Co富集钴铂合金薄膜不需要经过高温退火就具有高矫顽力，这也是溅射法所无法比拟的；在Co-Pt-W（P）磁性薄膜中钨的共沉积可以使合金薄膜在铂含量较低的情况下仍然保持较高矫顽力。目前，对采用电化学方法合成多元合金磁性薄膜，无论在理论上或是在实验上，有待进一步的认识和提高。 本文通过一系列的实验，研究了电沉积条件对Co-Pt-W（P）磁性薄膜微观结构、宏观性能的影响，以期揭示薄膜的生长过程及高矫顽力的形成机理。通过研究，可为Co基多元合金薄膜材料的电化学合成和性能表征提供可靠依据，并为定向控制磁性薄膜材料的生长提供理论及实验上的指导。 在第一章中，简要回顾了Co-Pt合金薄膜的研究与发展现状，对不同制膜方法进行了综合比较，重点介绍了电沉积Co-Pt合金薄膜的最新进展。 在第二章，通过实验结果分析，发现利用电化学沉积法制备的富钴的Co-Pt-W（P）合金薄膜具有hcp结构，生长优化取向不同的薄膜样品表现不同的磁特性。提高薄膜磁性能的关键是控制好镀液成份和沉积参数以调控薄膜成份及结构。基于此，拟定实验方案如下：采用正交法设计实验，制备出性能优异的Co-Pt-W（P）合金磁性薄膜；研究不同工艺条件对Co-Pt-W（P）合金电沉积和薄膜样品的成分、性能以及微结构的影响。在本章中我们主要介绍了研究合金电沉积的电化学常用测试方法，观察镀液性质的紫外分光光度计法以及表征薄膜样品的振动样品磁强计（VSM）、X荧光分析仪、X射线衍射（XRD）以及原子力显微镜（AFM）等测试仪器。 在第三章中我们选用Co（NH₂SO₃）₂、（NH₄）₂PtCl₄、Na₂WO₄·2H₂O、（NH₄）₂C₆H₆O₇等作为镀液的主要成分，利用电化学沉积法制备Co-Pt-W（P）磁性薄膜。采用正交实验L₂₅（5⁶）对沉积电流密度、温度、Na₂WO₄·2H₂O和（NH₄）₂C₆H₆O₇浓度四个因素进行优化组合，得到了电流密度为5mA／cm²，温度为60℃，Na₂WO₄·2H₂O和（NH₄）₂C₆H₆O₇浓度分别为0.08mol／L、0.198mol／L的制备条件是样品具有高矫顽力和方形度的最佳组合配方。通过XRD结构分析发现，[00.1]优化取向的hcp结构有利于Co-Pt-W（P）磁性薄膜的硬磁性能。