本文采用表面选择改性-重复离子交换还原法和原位选择离子交换自金属化法这两种方法,在聚酰亚胺薄膜的表面实现了高导电性、高粘接性的精细化银图案的制备。在表面选择改性-重复离子交换还原法中,实验对各步骤的影响因素进行了研究,确定了最佳的制备条件。通过傅里叶红外光谱(FTIR)研究了不同增粘体系的刻蚀剂对薄膜分子链结构的影响;通过扫描电子显微镜(SEM)观察实验中获得的银图案表面形貌,建立了银图案的厚度、线宽、分辨率与刻蚀剂配方、刻蚀时间之间的关系并探索了其中的机理;通过电感耦合等离子体质谱仪(ICP)建立了离子交换过程中银盐种类、浓度、离子交换时间与薄膜载银量的关系;通过四探针电阻仪对银图案表面电阻进行测试,研究了重复离子交换-还原次数对银图案导电性的影响,最终得到了导电性能优异(表面电阻<1 Ω/sq)、低线宽(<500 μm)、同时具有优异的银层粘接性的精细银图案化聚酰亚胺薄膜。在原位选择离子交换自金属化法中,实验发现增粘体系对银图案及薄膜的性能有着巨大的影响。增粘体系A的离子交换剂获得的银图案化聚酰亚胺薄膜导电性与机械性能较为优异,但对银图案的线宽有着较大的限制;增粘体系B的离子交换剂对聚酰亚胺基体的机械强度有一定的破坏,但合理控制银氨浓度和离子交换时间,可以将影响降低到可以接受的水平(拉伸强度>100 MPa),并且可以获得非常低线宽水平(<300 μm)的银图案。