【摘 要】
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近年来,具有低电阻率和优良的化学稳定性的金属硅化物因其广阔的应用前景而受到人们的注意,并发展了多种合成技术.其中离子束合成(IBS)技术制备出的硅化物薄膜的均匀性及重复
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近年来,具有低电阻率和优良的化学稳定性的金属硅化物因其广阔的应用前景而受到人们的注意,并发展了多种合成技术.其中离子束合成(IBS)技术制备出的硅化物薄膜的均匀性及重复性较好,更能适合大规模集成电路(VLSI)的要求.该课题组利用MEVVA源将强流金属离于直接注入到单晶硅中或进行离子束混和,不需要进行后退火处理就直接得到了金属硅化物,从而简化了离子束合成金属硅化物的工艺过程.作者在该论文中探讨了利用MEVVA源不经后退火合成外延金属硅化物薄膜的可能性,并结合MEVVA源的工作特点,初步研究了强流离子注入合成金属硅化物的动力学机制.
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