【摘 要】
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自2004年发现石墨烯以来,二维材料由于具有优异的特性而成为了当今基础科学与先进技术研究的热点。石墨烯虽然具有优异的光学、电学、力学特性,但是其零能量带隙（半金属）的特性导致其无法直接应用于半导体的电子与光电器件中。过渡族金属硫族化物是一种具有与石墨类似的结构的半导体材料,同时还具有良好的拉伸性和柔韧性,因此过渡族金属硫族化物引起了人们极大的兴趣。本文主要利用化学气相沉积法制备出（单层及少层）可控
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自2004年发现石墨烯以来,二维材料由于具有优异的特性而成为了当今基础科学与先进技术研究的热点。石墨烯虽然具有优异的光学、电学、力学特性,但是其零能量带隙（半金属）的特性导致其无法直接应用于半导体的电子与光电器件中。过渡族金属硫族化物是一种具有与石墨类似的结构的半导体材料,同时还具有良好的拉伸性和柔韧性,因此过渡族金属硫族化物引起了人们极大的兴趣。本文主要利用化学气相沉积法制备出（单层及少层）可控的二硫化钨,并对其物理特性和光电性能进行了研究。（1）通过控制变量法,详细的研究了沉积温度、载气流量、沉积时间和基底位置等影响二硫化钨沉积的因素,实现了单层及少层二硫化钨的可控制备。研究了单层及少层二硫化钨的拉曼光谱和光致发光光谱。并在80-300 K的温度区间内进行了拉曼光谱测试,光致发光光谱测试。研究发现单层及少层二硫化钨拉曼光谱随着温度的升高,两个振动模式E22)、A12)的峰位发生蓝移,单层二硫化钨光致发光的峰位发生红移,少层二硫化钨A和B两个分峰的峰位发生红移。（2）将不同层数的二硫化钨制做成光电器件,测试其光电性能。发现随着层数的增加,二硫化钨的电阻明显变少。迁移率明显变大,这是由于二硫化钨的界面荷散射随厚度的增加而减少导致的。不同波长的激光以不同的功率密度照射单层及少层二硫化钨器件,发现随着层数的增加,二硫化钨的响应率明显增大,当入射功率密度为0.13 m W/cm~2时,4层二硫化钨对457 nm激光的响应率达到16.58 k A/W,表现出了非常卓越的光电性能。
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