PDMS改性的低表面能高分子膜的合成及表征

来源 :复旦大学 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Mr_Zhou
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本文中合成了单羟基或双羟基封端聚二甲基硅氧烷(PDMS)改性低表面能聚氨酯(PU)薄膜。当所用的长链PDMS重复单元数达到60—70时,只需要质量百分含量为0.2 wt﹪的PDMS即可使所得产品薄膜的水接触角滞后值(CAH)达到20°,体系硅质量百分含量低于0.03 wt﹪。成膜温度明显的影响了改性聚氨酯膜的水润湿性:相比于高成膜温度薄膜,低成膜温度(40℃)下制得的PDMS表面自聚集效应更强,故对同一配方薄膜,低成膜温度的薄膜总有着更高的水后退接触角和更小的接触角滞后值。通过改变X射线入射角对产品进行X射线光电子能谱表征,我们发现对同一配方的薄膜,低温下所成薄膜的表面硅含量更高。通过对产品进行原子力显微镜(AFM)表征,我们发现所得薄膜的表面均为光滑表面,但是表面相结构则被体系中硅含量和成膜温度所影响。当PDMS链的重复单元数达到60—70时,单羟基或双羟基封端的聚PDMS都足以阻止在接触角测量过程中发生表面重排。
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