Ga-N共掺p型ZnMgO薄膜的研究

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ZnO是Ⅱ-Ⅵ族宽禁带半导体材料。在室温下,ZnO的禁带宽度为3.37 eV,激子结合能高达60 meV。Mg掺入ZnO薄膜形成的ZnMgO薄膜的禁带宽度,随着Mg掺入量的不同,会在3.3-7.8 eV范围内连续可调,显示出ZnMgO在紫外波段光电器件方面广阔的应用前景。ZnMgO应用于ZnMgO/ZnO异质结、超晶格、量子阱等光学带隙工程,可以明显提高发光效率,制得的半导体激光器可以覆盖从蓝光到紫外光的区域。因此,ZnMgO材料的研究具有极其重要的科研意义和应用价值。但目前关于p型施主-受主共掺杂
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