目的：以传统失蜡法铸造的试件为对照，研究区域选择性激光熔化技术（SLM）制作的齿科用钴铬合金，观察其表面特征，研究该种金属的电化学腐蚀行为及离子析出情况。　　材料与方法：将具有相同成份的钴铬（Co-Cr）合金金属粉末和金属块，分别运用SLM技术及传统的铸造工艺制作并分成两组。通过扫描电镜、EDS、金相显微镜、XRD及XPS的方法，观察SLM钴铬合金和铸造钴铬合金的表面特征。并采用电化学交流阻抗谱的方法，分别在pH值为5和2.5的条件下，测试两组抗腐蚀性能。及研究在细胞培养液（DMEM）中的离子析出情况。结果采用成组t检验的统计学方法进行分析和比较。　　结果：SLM钴铬合金表面为蜂窝状结构，表面氧化层厚度为3.6nm。铸造钴铬合金表面为典型树枝状结构，表面氧化层厚度为3.3nm。在pH为5时，SLM组的Rp值为4.25 MΩ/cm2，铸造组的Rp值为3.82 MΩ/cm2，P>0.05。在pH为2.5时，SLM组的Rp值为5.834 MΩ/cm2，铸造组的Rp值为3.49 MΩ/cm2，P<0.05。SLM组在DMEM中的Co离子析出量为0.09μg/cm2，铸造组为1.04μg/cm2，P<0.05。SLM组Mo离子析出量低于最小检测值，铸造组为0.19μg/cm2，P<0.05。　　结论：SLM钴铬合金的表面特征与传统的铸造钴铬合金相比有着晶粒小，结构致密均匀，氧化层厚度更厚的特点。在 pH值为5时，SLM制作的钴铬合金的抗腐蚀性能与传统铸造的钴铬合金的抗腐蚀性能相似。在pH值为2.5时，SLM制作的钴铬合金的抗腐蚀性能优于铸造的钴铬合金，同时 SLM钴铬合金的离子析出量也少于铸造钴铬合金。