在微纳结构加工技术中,激光干涉技术具有成本低、视场大、分辨率高等特点,因此基于激光干涉理论,利用激光干涉技术来制备具有调制现象的微纳结构,即微纳双重结构,并对其特征参数进行检测将有重大意义。本文简要介绍了激光干涉理论和激光干涉光刻技术。利用计算机软件对三光束、四光束、六光束激光干涉进行模拟,通过控制入射角、空间角、偏振态等相关干涉参数,使得模拟干涉结果是具有调制现象的干涉图案,并对不同干涉参数组合的调制现象进行了列举,得出了调制现象的变化规律。研究了六光束干涉模拟现象,将六束光分为两组,每组三束光,同一组具有相同的入射角度,不同的空间角分布,干涉出了六边形的微纳双重结构。将六束光分为两组,一组四束光,一组两束光进行了模拟,干涉出了正方形的微纳双重结构。用633nm小激光器搭建激光干涉实验系统,通过控制反射镜、分束镜的位置,在CCD上成像得到了三光束、四光束、六光束激光干涉调制图,分别对其进行图像采集和信号处理。采用提取干涉图像调制方向剖面曲线的方法进行参数测量,得到了它的调制大周期和小周期,并与理论值进行了对比。同时用大功率激光器搭建六光束激光干涉光刻系统,在硅材料上制备微纳双重结构样品,并对样品图进行处理,用两种检测方法针对样品结构提取调制大、小周期特征参数,并对结果进行了分析。