去芳构化反应是有机合成中的基本反应之一,它能够将芳香化合物转化为非芳香环状化合物。Birch还原反应是最常见的去芳构化反应之一,但是其往往需要使用碱金属和液氨等,而这些苛刻的反应条件限制了它的广泛使用。一个有意义的改进是,用氯硅烷作为亲电试剂,在普通溶剂中将芳环转化为硅取代环己烯或衍生物。该类反应所用试剂廉价且反应条件安全温和,但其适用范围仅限于结构简单的富电子芳烃。对于缺电子的芳基羰基化合物,在相似反应条件下会主要得到苄位硅烷化产物。这是因为芳环本身具有的高度稳定性,不论是负离子还是自由基历程,都会倾向于形成更稳定的苄位负离子或者自由基中间体。因此要实现对芳羰基衍生物的选择性硅烷化反应研究反应,需要形成活性更高的双负离子中间体。由于双负离子中间体的能量高且稳定性差,在反应过程中直接形成双负离子是很难的。在本论文中,我们利用偶极性溶剂N-甲基-2-吡咯烷酮（NMP）和三甲基氯硅烷（TMSCl）形成的稳定络合物,和底物分别发生单电子还原,经过自由基碰撞,形成具有去芳构化能力的五配位硅双负离子中间体,实现了具有广泛底物适用性范围的芳基羰基化合物及衍生物的还原硅烷化反应。我们利用机理实验和计算化学等方法,对该体系的机理进行了深入研究。结果表明,底物和NMP/TMSCl络合物的相对还原电势,以及底物中取代基的电子效应和立体效应,决定了该体系中去芳构化反应的比例。此外,我们还设计了新颖的电子转移催化体系来实现前述体系不适用的二芳酮类底物的还原硅烷化反应,并利用紫外可见光谱法和机理实验等验证了其机理。我们还初步研究了将反应产物进行各种转化,证明了本论文所发展还原硅烷化方法的巨大潜力。