液晶空间光调制器是一种对光波的光场分布进行调制的器件,它能够接受较低强度的光驱信号或电驱信号,实现对另外一种光信号振幅、相位、强度的调制。其广泛应用于空间滤波、图像处理、大屏幕显示等,极大的方便了视觉信息的交流和传递。因此研究液晶空间光调制器各功能层性质从而提高器件分辨率,响应速度等具有十分重要意义。论文首先介绍了液晶空间光调制器的工作原理,从理论上提出器件对各功能层的要求。其中光敏层的亮暗电导比直接决定了器件性能优良,论文中采用氢化非晶硅薄膜作为光敏层,通过调节不同工艺参数,借助多种分析测试方法,研究了气体温度、射频功率密度、气体流量、压强和不同掺杂比对非晶硅薄膜光电性能的影响。并根据测试结果优化工艺参数,制备出性能良好的薄膜。采用等离子体化学气相沉积(PECVD)法,在ITO玻璃衬底上制备出硼轻掺杂比的氢化非晶硅(a-Si:H)半导体薄膜。测量了样品光暗电导率,折射率,消光系数,禁带宽度随掺杂比的变化。结果表明：随着硼掺杂比浓度的增加,薄膜的暗电导率先减小后增大。消光系数,禁带宽度等都随着掺杂量的增加而变化。实验在改变不同工艺条件的情况下,改变硼掺杂浓度,确定了最佳掺杂比(光暗电导率之比最大)。此后依次制备出适合器件级的微掺杂氢化非晶硅薄膜光敏层、吸收层、介质镜等。采用热蒸发法CdTe薄膜,并且使用紫外-可见光光分度计测试了薄膜的透过率。在此基础上测试了氢化非晶硅薄膜与CdTe薄膜复合层的透过率。介质镜在器件中主要是隔绝写入光与读出光。测试显示制备出的介质镜薄膜在中心波长为540nm处反射率高达99.8%。在液晶盒制备中,首先讨论了液晶盒的工作原理,讨论了常见TN型液晶盒工作原理。介绍了实验室封灌液晶盒遇到的问题及其对应的方法。在封灌完液晶盒后搭建光路,测试所制备的液晶空间光调制器的性能。测试结果表明论文中制备的液晶空间光调制器已经基本能够满足要求,实现了光波长的转换。