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随着科技的迅速发展对纳米材料需求越来越广泛,纳米尺寸的铁电薄膜由于其具有良好的铁电性、热释电性、压电性以及非线性光学等特性,在光学器件、感应器件、微波器件以及高密度非挥发性存储器件等工程领域具有广阔的应用前景,已成为目前纳米科学研究的热点之一。本文基于与时间相关的Ginzburg-Landau(TDGL)方程,对夹持在金属电极间的ABO_3型铁电薄膜进行了铁电性能模拟;讨论了光生伏打效应对纳米尺度下ABO_3薄膜铁电性能的影响,并探讨了力学加载对光生伏打效应的调控作用。模拟结果表明尺寸效应对