【摘 要】
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本文利用自行设计的微弧氧化设备，研究了溶液、电参数等因素对镁合金微弧氧化陶瓷层的生长厚度、致密性及表面粗糙度的影响。通过中性NaCl盐雾腐蚀试验和电化学分析试验比较了
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本文利用自行设计的微弧氧化设备，研究了溶液、电参数等因素对镁合金微弧氧化陶瓷层的生长厚度、致密性及表面粗糙度的影响。通过中性NaCl盐雾腐蚀试验和电化学分析试验比较了微弧氧化陶瓷层与阳极氧化陶瓷层的耐蚀性，结果表明：镁合金微弧氧化陶瓷层的耐蚀性比阳极氧化陶瓷层的耐蚀性有显著提高，后者的腐蚀电流比前者高2～3个数量级。利用金相显微镜、扫描电子显微镜和X射线衍射等方法分析陶瓷层的微观形貌及结构，研究表明陶瓷层是在微区弧光放电作用下，由中心具有微孔的呈“火山锥”状生长的微小颗粒相互结合而形成的；微弧氧化陶瓷层随着厚度的增加，构成陶瓷层的“火山锥”状微小颗粒及其中心的微孔均变大，颗粒密度降低；陶瓷层与基体之间为冶金结合；陶瓷层主要相组成为MgO和少量的MgAl2O4及Mg2SiO4。
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