【摘 要】
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以磁控溅射的Ti薄膜作为中间层可在较低温度下实现钛合金的扩散焊。研究了工作气压和溅射功率两个主要工艺参数对Ti薄膜沉积速率、成膜质量的影响规律。在Ar气压为0．8Pa,溅射功率为38W的条件下在TC4试样表面沉积了厚约1μm的Ti薄膜,采用感应加热方式将其分别快速加热至600℃,800℃,900℃和1000℃。通过对薄膜表面形貌、成分及物相分析发现,随着加热温度的升高,薄膜晶粒显著长大,少量Al,
【机 构】
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北京航空材料研究院,北京 100095 北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京 100191
【出 处】
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SAMPE China 2010和第九届先进材料技术研讨会
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以磁控溅射的Ti薄膜作为中间层可在较低温度下实现钛合金的扩散焊。研究了工作气压和溅射功率两个主要工艺参数对Ti薄膜沉积速率、成膜质量的影响规律。在Ar气压为0．8Pa,溅射功率为38W的条件下在TC4试样表面沉积了厚约1μm的Ti薄膜,采用感应加热方式将其分别快速加热至600℃,800℃,900℃和1000℃。通过对薄膜表面形貌、成分及物相分析发现,随着加热温度的升高,薄膜晶粒显著长大,少量Al,V原子扩散进入Ti薄膜中,除Ti6O外未发现新的物相。
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