AlN外延膜的深紫外光致发光研究

来源 :第一届全国宽禁带半导体学术及应用技术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lxl
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We have investigated the optical properties of AlN epitaxial layer grown by MOCVD using temperature-dependent photoluminescence measurements in the energy region of the band gap,with the wavelength of excitation source down to deep UV range (~177 nm).The experiments allow for observation of four different emission lines located at 5.85 eV,5.96 eV,6.06 eV and 6.125 eV,respectively at low temperature (as shown in Fig.1).
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作为一种宽禁带半导体材料,由于氮化铝其特殊的物理和化学性质,其在真空电子器件方面的应用已经得到广泛的关注.据文献报道,氮化铝薄膜具有较低的正电子亲和势,甚至是负电子亲和势(NEA),这表明氮化铝可作为真空电子器件的电子源.为此,探究氮化铝阴极的击穿机制是提高相关真空电子器件的稳定性的关键.本文通过分析氮化铝场发射曲线(I-E),结合扫面电子显微镜(SEM)图像和能量色散谱仪(EDS)元素表征,提出
近年来,LED作为新一代光源,因其具有节能、环保、寿命长、体积小等众多优点,开始逐步被应用到普通照明领域.调查显示,LED灯具中,芯片本身的成本只占总成本的10%-15%,芯片的封装成本却占总成本的50%,偏高的封装成本已成为阻碍LED灯具进一步普及的关键因素.通过芯片结构优化设计得到了单片大功率蓝光LED芯片,并通过荧光晶体实现高效白光转化,实现了光通量达20001m以上的单片大功率白光LED。
光学损耗是表征激光器性能的重要参数,对激光器的阈值电流、斜率效率有直接的影响.测量激光器的光学损耗对于激光器的研究具有巨大的推动作用.传统的测量氮化镓基激光器光学损耗的方法主要有Hakki-Paoli法、变腔长法,这两种方法都需要制备完整的激光器样品.2010年,DmitryS.Sizov等人提出了一种直接测量氮化镓基激光器外延片光学损耗的方法,并在实验上证实了p型层同镁相关的能级引起的吸收是氮化
InGaN合金材料随In组分的改变禁带宽度可从0.7ev连续调到3.4ev,这一变化范围不仅覆盖了可见光的所有区域,还延伸到红外区域和近紫外区域,与太阳光谱几乎完美匹配.因此,利用不同组分的InGaN材料进行带隙叠层搭配,制作的双结及多结太阳能电池理论上将方便调节带隙以实现与太阳光谱的匹配,从而使用一种材料便可实现高效多结太阳能电池,这比传统的硅基和砷化镓基的多结电池具有优势,本文对极性和非极性P
目前,图形化蓝宝石衬底(PSS)广泛应用于GaN基发光二极管(LED)的生产.它能够同时提高GaN基LED的内量子效率(IQE)和光提取效率(LEE).有报道指出,火山口型PSS(VPSS)具有更多的侧面面积和侧向生长面积,相比于圆锥型PSS而言,具有更高的光提取效率.采用纳米压印与湿法腐蚀相结合的方法制备VNPSS,并且探究了VNPSS的形成过程。VNPSS晶面的形成受到热力学过程和表面反应过程
作为第三代半导体材料的典型代表,氮化物材料在击穿电场、电子饱和迁移速度、热导率、抗辐射以及能量弛豫时间等方面具有更大的优势.基于子带间跃迁的GaN基量子阱红外探测器可实现从1微米到亚毫米波段的全红外光谱探测.同时,氮化物具有紫外扩展特性可制备单片集成的紫外-红外双色探测器,实现超低虚警率、超快响应时间、更小元器件体积以及更高分辨率成像.氮化物材料中极化诱导的内建电场是目前限制载流子纵向输运、影响红
二元氮化物根据四面体中原子的排列顺序不同,可将晶体结构分为三种:纤锌矿结构(WZ),闪锌矿结构(ZB)和岩盐矿结构.其中六方纤锌矿Ⅲ族氮化物为稳定结构,在通常生长条件下为主要晶相.在生长Si(111)衬底AlN的过程中,出现了立方相AlN,通过研究材料生长工艺对薄膜中立方相AlN含量的影响以及引入立方相AlN后体系能量的改变,分析了决定立方相AlN形成的机制及主要因素.
The blooming optoelectronics market has urgent demands for the high efficiency of light-emitting diodes (LEDs) based on the gallium nitride (GaN) material system.Due to the large difference in the lat
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近年来,GaN材料的纳米异质外延(NHE)技术引起了广泛关注.相比于微米级选区生长技术,NHE技术可以通过限制核心尺寸在GaN的初始生长阶段显著湮灭位错、弛豫应力.然而GaN在高缺陷区的过早合拢并不利于最大限度提升薄膜质量,且纳米图形复杂、昂贵的制备工艺也不利于NHE技术的大规模应用.本文中,运用碳纳米管(CNT)掩膜实现了NHE技术改进,将微米级和纳米级两种选区生长技术的优势进行融合,显著提高了